不了这种高精尖的东西还真不是偶然，首先是产业不配套，国内在这方面的市场太狭小。
何伯格聘请了一批技术工人，和一批研究人员。结果，他们发觉按照玄武国的研究水平和工业水准，最多只能造出最低端的光刻机。就是那种接触式曝光的光刻机，这种光刻机的掩膜板直接与光刻胶层接触。
它曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当，设备简单。
何伯格请了一个从美国麻省理工大学回来的光刻机领域的专家林樊闻，这人在荷兰工作过，他告诉何伯格：“接触式光刻机，根据施加力量的方式不同又分为：软接触，硬接触和真空接触。软接触就是把基片通过托盘吸附住，这类似于匀胶机的基片放置方式，掩膜盖在基片上面。这个最简单，何伯格投资的工厂就能制造。”
不过，光刻机领域的专家林樊闻告诉他：“这种光刻胶污染掩膜板，这会导致掩膜板的磨损，一旦掩膜板损坏，光刻机上的掩膜板寿命也就到了，这个机器只能使用5到25次。用这种东西生产产品，容易累积缺陷。”
何伯格说：“这是上个世纪七十年代的工业水准，现在主要的发达国家已经用接近式曝光方式所淘汰了，但我们玄武国的国产的光刻机均为接触式曝光，国产光刻机的开发机构无法提供工艺要求更高的非接触式曝光的产品化。”
林樊闻说：“确实如此，接触式光刻机还有硬接触，它是将基片通过氮气的气压往上顶，使之与
第32章 光刻机(3/5)