“好”，以后光刻机制程工艺技术方面有成果了，那么“合作分享”一部分也不是不可以。
不然的话，丁跃就准备自己建厂造光刻机以及芯片，那到时候跟国芯科技集团可就是竞争关系了。
当然了，前提是雾城文理大学的光刻机实验项目能够不断顺利的完成。
而就丁跃目前所知道的，自己雾城文理大学光刻机实验项目在5纳米级别光刻机领域，已经有很大的进展了。
而7纳米、14纳米级别的光刻机制程工艺技术，只要实现了能够自己成熟制造，那么就可以在这一场缺芯危机之中游刃有余了。
14纳米级别和32纳米级别的芯片，属于当前比较主流的芯片，很多电子产品都用得上。
7纳米级别，属于较为高端的芯片。
而5纳米级别的，则是各大公司企业最高端最先进的产品才用得上的，3纳米级别的话，目前夏国还没有攻破这一难关，跟外国佬们还是有一个级别程度的差距的。
造成熟级别芯片的技术有是有，可缺光刻机啊！
光刻机的技术又在外国佬那边掌握着，国内的研究可谓是举步维艰！
雾城文理大学已经在这一块儿暗暗研究好几年了，丁跃用上了自己雾城文理大学相关专业领域最优秀的人才，以及从系统商城里面兑换出来的顶尖技术。
可就是这样，几年来进展也没有想象之中的那么顺利。
可见光刻机和芯
第663章 国芯科技集团的决定！（求订阅）(3/9)