可这一块却一直是咱们的短板，目前国内制造的光刻机，精度也就只能拿到28n;所以他们现在要面临的问题，就是如何解决光刻机的难题。
如果h公司现在开始制造光刻机，这可能需要几十年的时间，可问题是等你在研发光刻机的时候，人家也会在不断的更新迭代。
所以你只能在屁股后面一路跟着，这就会让你永远也追不上人家。
另外就是，目前根据摩尔定律判定，硅芯片的极限，可能也就在1n;就算他们在今后几十年跟进，做到1n的极限的时候，说不定人家早就已经转进，开始研发其他类型的芯片了。
所以关于他们芯片部门，未来到底选择什么样的方向，最近一直争辩的比较厉害。
还有就是关于芯片设计部门的，现在他们也比较头疼，因为米国人把他们使用的工具都给禁了。
原来他们要设计芯片，就必须要使用世界第一的设计工具eda，现在人家把你的设计工具都给禁止了。
这就大大耽误了芯片设计的进度，之前方总已经吩咐一众人等，暂且先放弃下一代的芯片设计工作。
转头开始开发工具，这个虽然也难度不小，但最起码还不像硬件的鸿沟那么大。
最近一段时间，大家在各种头脑风暴的碰撞中，总算是有人提出了几个不错的想法。
那就是既然他们以后可能有段时间不能用上最顶级的芯片，那就不妨在原来的芯片上
1310 破局(5/7)