，“把光刻机的研究进度给他们看看！”
半导体产业四大核心设备——光刻机、离子注入机、刻蚀机、薄膜沉积机，这其中光刻机是最经常被人提及的，原因很简单，因为光刻机是最难的。
杨东升也是正式涉足光刻机领域后，才知道这一块有多难。
如果是追着外国人的屁股研究的话，他们永远别想赶上别人，而且永远也别想盈利，他们无论做出何种等级的设备，西方国家马上就会解除对同等设备的禁运，一点市场也别想拿到。
得益于杨东升的先知先觉，东升半导体决定直接上马极紫外线光刻相关技术。
杨东升敢这么做，是因为光刻机不用先做出第一代设备，才能做第二代设备。
光刻机三大核心部件——光源、镜头、工作台。
其中的关键光源技术，深紫外线使用的是准分子激光，跟下一代极紫外线光源相互的关联很少！
而且准分子激光技术应用很广泛，此项技术不止美国一家掌握，想绕过美国相对简单，相比之下极紫外线光源技术就比较妖孽了。
后世阿斯麦的极紫外线光刻机，使用的光源是采用激光持续轰击锡滴。
由于极紫外线只占锡滴发出的光很少一部分，大约只有百分之几，因此要使用足够强的激光轰击锡滴，才能发出足够强的光——至少得是3万瓦以上，而且还得持续不停的输出。
大功率的激光，持续不断的准确命中锡
第585章 没有秘密的秘密(3/5)