这样的目的，就得更尖端的光刻机。
毕竟只有纳米数越小的光刻机，才能在同等体积的芯片或者是晶元上堆叠更多链接电子元器件，并极大的降低能耗。（芯片和晶元中的线路不是平面的，而是靠堆叠来完成。）
光刻机一帮是由光源，均匀照明系统、投影物镜系统、机械及控制系统(包括工件台、掩膜台、硅片传输系统等构成。
按照张学东冯长宇祁同文等人的说法，国产光刻机，比如已经交付华芯进行使用的分步式光刻机，虽说对比国外最先进产品，在技术方面依旧有差距，不过这个差距并不是太大，更不存在代差……
毕竟大家都采用的都是同等理念，分步式投影。
唯一的差别，或许也就是光源了。
听到此处，从头到尾一直都没怎么说话的光学投影专家，长光所的龚建亮终于开口了。
他表示长光所在最近的研究中有一些心得，表示经过研究，如果能用放电汞灯辐射紫外光，应该有希望进一步的降低光源波长，将现在正在应用的高压放电汞灯的光源从极限的365纳米，成功降低到250纳米！
“这是真的吗？”
听到这话，无论是张学东任继宪还是冯长宇都兴奋不已，同时也有些悻悻，埋怨龚建亮怎么不早说……
毕竟近年虽然已经传出西方在光刻机方面的研究，其实已经早就突破了微米级，已经在向纳米级发展，但终究还没有实际产品出来。
要长光所
第573章 光刻技术探讨(4/5)