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重生之工业狂潮

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第三百一十三章 光刻技术
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拟音的话应该是“阿斯麦”。

    这家公司在艾斯巴国,它原本是一家芯片制作商,十几年前电子巨头菲利普与之合作,成立了新的部门,开发光刻系统和机器。

    光刻技术出现在上世纪50年代,山姆国贝尔实验室的两位工程师尝试把线路图“打印”到硅晶片上,使之产生更精细、更复杂的设计。

    大致方法是先制版,通常采用石英玻璃板和铬板的复合材料制作底板,用电子束或镭束在上面刻画集成线路,做成光掩模。

    然后,硅片上涂上光敏涂层,将光掩模上的图案曝光在硅片涂层上,接着通过化学蚀刻的办法,完成集成线路的“打印”。

    光掩模相当于底板,这么反复操作就能够大量制作印刷上集成线路的硅片。

    1961年,山姆国gca公司的david  w.  mann部门,制造出第一台步进式光刻机,售价30000刀,精度1微米。

    1984年,阿斯麦成立,当时蓝星大概有10家光刻机制造商,那时这个行业的老大是gca,阿斯麦倒数第一。

    到80年代末,蓝星活着的光刻机企业只剩下5家,包括太阳国的尼康、佳能,山姆国的gca、svg。

    阿斯麦排第四位。

    1995年,阿斯麦经历沟沟坎坎后,获得了三星电子的超大订单,并在哥谭证券交易所上市,而曾经的老大gca在被收购一次后,已经被关

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